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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
CRF等離子體發生器設備清潔后可大幅提升吸水材料的耐鹽性： 通常表示，crf等離子體發生器設備形成的氧自由基、離子、電子等高能粒子的改性反應很有可能會通過表面反應引入特定的親水性官...
發布時間:2022-05-07
低溫等離子的歷史由來和參數介紹： 低溫等離子清潔的運用始于20世紀初。伴隨著現代科學技術全產業鏈的迅速發展趨向，低溫等離子清潔適用于合金材料、半導體器件、氧化成分、有機化合物和...
發布時間:2022-05-04
與傳統技術相較CRF等離子刻蝕機清理無需中后期干燥工藝： 等離子與產品表層的反應是等離子刻蝕機的重要機理，大致可分為2種：1種是氣體電離產生的氧自由基活性粒子與產品表層污染物的化學...
發布時間:2022-05-01
誠峰智造plasam體處理可以濺射清掉瀝青拋光的硅片表面加工變質層：? ? ? ?誠峰智造plasam體表面處理是近十幾年來發展起來的一項技術，由于其采用全干法、無污染處理效果好而廣泛應用。等離子體...
發布時間:2022-04-25
CRF等離子處理器是1種可增強FEP纖維的面上潤濕性的高效方式: crf等離子處理器作用至纖維面上后，刻蝕作用會使纖維面上部分C-F鍵發生斷裂，在纖維面上產生大量的自由基等活性官能團，活性...
發布時間:2022-04-22CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
