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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
通入四氟化碳作為真空等離子蝕刻機的氣源可以實現蝕刻的功能： 另外物理過程是通過真空等離子蝕刻機對基片表面的轟擊與濺射刻蝕不同的是，這里的物理轟擊，主要是破壞化學鍵和晶格序列，...
發布時間:2022-10-30
24小時運行定制的在線式等離子清洗機的持續應用時間有多久： 用壽數作為衡量非標自動化線性等離子表面處理機質量的一個重要指標已成為人們的共識，事實上，用壽數作為衡量非標自動化設備...
發布時間:2022-10-26
電漿清洗機采用O2或壓縮空氣在化學原理上的分析： 電漿清洗機生物質煉制原理，為生物質高效、清潔煉制提供一個新途徑。生物質資源成分豐富、結構復雜，在進化過程中，形成了一系列抗降解...
發布時間:2022-10-25
plasma設備有40kHz，13.56MHz，2.45GHz頻率的類型助力半導體封裝：? ? ? ?由于半導體等電子行業的迅速發展，相關領域也在迅速發展，等離子體表面處理行業是代表之一；在包裝生產過程中影響巨大...
發布時間:2022-10-23
CRF等離子體表面處理機的特點取決于其對物體的清洗、改性和提高產品性價比: 本加工工藝的目的是提高焊條/焊球在電子器件包裝行業的焊接生產質量，提高焊條/焊球與環氧樹脂密封材料的熔合...
發布時間:2022-10-19CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
