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CRF plasma 等離子清洗機

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       金剛石有著強的硬度、熱導率、化學穩(wěn)定性及其光學反射率等物理和化學性能,這些優(yōu)異性能,使得金剛石在許多領域都可以作為一種理想材料。例如可以用作電子束引出窗口、高頻高功率電子器件、高靈敏的表面聲學波濾波器、切削工具等。

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       crf真空等離子清洗機化學氣相沉積(MPCVD)金剛石進行合法性制備,MPCVD法制金剛石的優(yōu)勢變得十分明顯,世界高端金剛石基本上都是通過MPCVD與其他生長方法相比,MPCVD法律原因具有無極放電、生長速度快、金剛石雜質(zhì)少等優(yōu)點,已成為金剛石生長的理想方法。
       近年來,MPCVD技術獲得了較大突破,對金剛石沉積工藝參數(shù)影響的探討已經(jīng)趨于成熟,但對MPCVD裝置諧振腔的研究還有待進一步深人。微波諧振腔是MPCVD該裝置的核心部件和不同射頻真空等離子體清洗機的微波諧振腔結構會影響電場的強度和分布,從而影響等離子體的狀態(tài),并相應地影響鉆石沉積的質(zhì)量和速率。MPCVD裝置微波諧振腔的結構探討對于金剛石生長方面也是有著價值的。
       常用的MPCVD法生長金剛石所用的諧振腔有不銹鋼諧振腔式和石英鐘罩式,石英鐘罩式利于生長大面積的金剛石薄膜,但速率較慢且容易污染石英管,而不銹鋼諧振腔式設備則有著生長速率快的特點。


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