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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
CRF等離子處理器接枝量均與分子量呈正比關系: crf等離子處理器引起機制的PP薄膜表層及等離子體氣氛中而且存在著活性種，而在過氧化物引起體系中，由于過氧化物的均裂，PP薄膜表面的自由基...
發布時間:2022-11-02
CRF等離子蝕刻機ICP蝕刻技術應用廣泛SiC刻蝕應用： 反應燒結碳化硅(RB-SiC)是一種新型陶瓷材料，其具有性能好、比剛度高、導熱性大、膨脹系數小的特點.隨著光學技術的快速發展，光...
發布時間:2022-10-29
plasma有著足夠的能量斷開生物質原料中的化學鍵： 隨著全世界對生物質能煉制的深人研究，新的生物煉制工藝不斷涌現，低溫等離子體工藝以特有的化學活性和高能態成為有著前景的生物質能煉...
發布時間:2022-10-25
半導體領域有陶瓷封裝、引線鍵合等工藝需要用到等離子體設備： 等離子體設備有很多種叫法，其中常見的是等離子清洗機、活化機、電漿機還有plasma清洗機等等，它的作用實際也不是清洗污垢...
發布時間:2022-10-22
PTFE不僅可以提高材料表面的粘接能力，還可以通過的真空等離子設備來實現:1.真空等離子設備低溫等離子體蝕刻：在低溫等離子體蝕刻的整個過程中，被蝕刻的物體會變成氣相。使用機械泵排出多余的產物，并繼續用新鮮氣...
發布時間:2022-10-15CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
