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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
增加功率低溫等離子體制樣表面的-C-O-C數量增加: 隨著放電功率的增大，制樣表面的接觸角隨著放電功率的增大而增大。隨著處理時間的增加，氧化層厚度增加，含o官能團的極性增強。低溫等離...
發布時間:2022-11-14
塑料表面噴漆前等離子火焰處理機清洗和濺射提升粘合力: 塑料屬于一種替代金屬的新型材料，其表面不易涂漆。消費者經常回應稱，他們回購的手機、筆記本電腦或數碼相機的表面在不到一個月...
發布時間:2022-11-10
CRF等離子體表面處理儀在基材封裝、焊接前的生產中清洗：一、等離子體表面處理儀-倒裝焊接 在芯片倒置封裝方面，清潔芯片和載體的等離子體，提高其表面活性，然后進行倒置焊接，可有效防...
發布時間:2022-11-09
等離子清洗設備芯片的引線鍵合有無可替代的優點： CRF等離子清洗設備在微電子封裝方面擁有著寬廣的推廣前景。等離子體清洗技術的成功應用在于工藝參數的優化，包含工藝壓力、等離子體刺...
發布時間:2022-11-09
真空等離子設備刻蝕處理后NGTi基TIO2薄膜使其親水性增強： 納米晶體鈦(NGT1)有著無毒、比強度大、低彈性模量良好的生物活性等優點，成為生物材料領域的一個研究熱點。TIO2薄膜是一類優質...
發布時間:2022-11-05CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
