應(yīng)用范圍

      真空等離子清洗機(jī)適用于印制線(xiàn)路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車(chē)電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線(xiàn)路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線(xiàn)、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
      真空式等離子清洗機(jī)系統(tǒng)廠家是運(yùn)用氣體電離形成的等離子體對(duì)產(chǎn)品工件進(jìn)行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優(yōu)質(zhì)的處理效果，針對(duì)不同的產(chǎn)品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機(jī)常見(jiàn)的加工工藝氣體有氧氣(Oxygen,O2)，氬氣(Argon,Ar)，氮?dú)?Nitrogen,N2)，空氣壓縮(Compressed Air,CDA)，二氧化碳(Carbon,CO2)，氫氣(Hydrogen,H2)，四氟化碳(Carbontetrafluoride,CF4)等。

      1、氧氣
      氧是一種常見(jiàn)的等離子清洗活性氣體，這是屬于物理學(xué)+化學(xué)處理方法，被電離后離子化造成的離子能夠?qū)Ρ砻孢M(jìn)行物理學(xué)轟擊，產(chǎn)生不光滑粗糙的表面。此外，高活性氧離子能與被斷鍵的分子結(jié)構(gòu)鏈產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成具備活性基的親水性表層，以完成表層活性的目的；而被斷鍵的有機(jī)污染物則能與活性氧離子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生CO、CO2、H2O等分子脫離表層，完成表層清洗。氧關(guān)鍵用以高分子聚合物的表層活性和污染物的除去，但不可以用以于易氧化的金屬表層。在真空等離子下，氧等離子呈淺藍(lán)色，一部分充放電時(shí)呈乳白色；放電環(huán)境中光線(xiàn)較亮，用肉眼觀看時(shí)很有可能出現(xiàn)看不見(jiàn)真內(nèi)腔內(nèi)放電的狀況。
      2、氫氣
      氫與氧類(lèi)似，是高活性氣體，能活化和清洗表層。氫和氧的差別關(guān)鍵取決于反應(yīng)后產(chǎn)生的官能團(tuán)不一樣，另外氫還具備還原性，可用于金屬表層的微觀氧化層除去，并且不易毀壞表層比較敏感的有機(jī)層。因而在微電子技術(shù)，半導(dǎo)體材料和pcb線(xiàn)路板加工制造業(yè)中運(yùn)用較為普遍。因?yàn)闅涫俏ｋU(xiǎn)氣體，在沒(méi)有電離的狀況下易與氧氣融合會(huì)產(chǎn)生爆炸，因而在等離子清洗機(jī)中不允許這二種氣體混合使用。在真空等離子狀態(tài)中，氫等離子體為鮮紅色，與氬等離子體類(lèi)似，要同樣放電環(huán)境下比氬等離子體顏色稍深。
      3、氮?dú)?br />       由氮?dú)怆婋x而成的等離子體與一些分子產(chǎn)生鍵合反應(yīng)，因而也是一種有活性氣體，可是相對(duì)于氧和氫而言，它的顆粒較重，在一般的等離子清洗機(jī)的運(yùn)用中，這類(lèi)氣體一般被界定在活性氣體氧、氫氣和稀有氣體氬氣之間的一種氣體。清洗活化時(shí)要做到一定的轟擊、蝕刻的效果，同時(shí)能避免一部分金屬表層產(chǎn)生空氣氧化。由氮?dú)夂推渌麣怏w混和而成的等離子體，一般用來(lái)處理一些特殊的材料。在真空腔體內(nèi)，相同放電的情況下氮等離子會(huì)比氬、氫等離子亮度更亮一些。

等離子表面處理

       氧等離子體處理是目前常用的一種干法蝕刻方式。氧氣(有時(shí)與氬混合)被用來(lái)處理鋁，不銹鋼，玻璃，塑料和陶瓷的表面。

等離子活化
       稍微改變活化表面就可以進(jìn)行更好的印刷或粘合。蝕刻機(jī)器可以讓等離子體侵蝕印刷電路板使其膠粘性能的提高，例如粘合性和可飾面性。

等離子表面改性

       等離子表面處理設(shè)備改性是指對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行清洗，以提高其印刷或粘接附著能力。等離子清洗的目的是去除表面有機(jī)污染物。等離子體處理你的產(chǎn)品表面，接受膠粘劑或印刷墨水。常用于聚四氟乙烯或塑料等離子體表面改性，實(shí)際上會(huì)改變材料的表面，使其留有自由基并粘附在膠或墨水上。