雙基片結(jié)構(gòu)下的射頻電漿清洗機(jī)：
       使用園柱諧振腔式MPCVD裝置能通過增強(qiáng)沉積壓力來提升等離子體密度，在基片臺(tái)上實(shí)現(xiàn)金剛石膜的快速生長。改變石英管位置、腔體結(jié)構(gòu)、調(diào)諧板靈活程度等方式達(dá)到增強(qiáng)功率密度的效果。把石英管設(shè)在沉積臺(tái)下方，提升諧振腔中調(diào)諧板與調(diào)諧活塞移動(dòng)范圍的方法，來實(shí)現(xiàn)減小電漿清洗機(jī)污染，提升沉積速率的效果。

        電漿清洗機(jī)內(nèi)基團(tuán)的相對(duì)譜線強(qiáng)度能夠反映出氣體的離解程度，同時(shí)也是金剛石沉積速率和質(zhì)量的重要因素，上基片臺(tái)作為尖部在微波電磁場(chǎng)中電場(chǎng)強(qiáng)度大，附近的離子發(fā)生激烈運(yùn)動(dòng)，并不斷與其他粒子發(fā)生碰撞，使等離子體密度增強(qiáng)。高H譜線強(qiáng)度說明雙基片結(jié)構(gòu)下等離子體能產(chǎn)生濃度更高的H自由基，H自由基能刻蝕sp'C和石墨等非金剛石相，增強(qiáng)沉積金剛石的質(zhì)量。
        相比于雙基片結(jié)構(gòu)，單基片臺(tái)下各個(gè)位置基團(tuán)強(qiáng)度都十分接近，說明雙基片臺(tái)結(jié)構(gòu)具有集聚等離子體的作用，能使各基團(tuán)向基片臺(tái)范圍內(nèi)靠攏，在基片臺(tái)范圍內(nèi)均勻性好，而基片臺(tái)范圍外則均勻性差，而單基片臺(tái)對(duì)等離子體的集聚作用則較弱，等離子體更加發(fā)散。
       此外在雙基片結(jié)構(gòu)下，隨著甲烷濃度提升，C2基團(tuán)強(qiáng)度上升更加顯著，能有效提高金剛石沉積速率；雙基片結(jié)構(gòu)下的射頻電漿清洗機(jī)電子溫度更低，內(nèi)部粒子間的碰撞更為劇烈，且電子溫度隨氣壓上升而降低。