誠(chéng)峰plasma清洗具備3大優(yōu)勢(shì)與傳統(tǒng)使用有機(jī)化學(xué)溶劑的清洗方式相比:
        與傳統(tǒng)有機(jī)溶劑濕法清洗相比,誠(chéng)峰智造解說(shuō)plasma清洗機(jī)的幾大優(yōu)勢(shì)，使您更了解等離子清洗機(jī)，等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗、刻蝕產(chǎn)生誠(chéng)峰plasma清洗裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子問距及分子或離子的白由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

      與傳統(tǒng)使用有機(jī)化學(xué)溶劑的濕法方式相比，誠(chéng)峰plasma清洗具備以下幾大優(yōu)勢(shì):
      1.誠(chéng)峰plasma清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率;
      2.采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。
      3.誠(chéng)峰plasma清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝。